研究報告

鎧俠 K2 廠震後無虞,NAND Flash擴產戰略樞紐

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發佈日期

2025-12-09

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更新頻率

不定期

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日本地震未影響鎧俠北上廠運作。在同業因AI熱潮優先投資DRAM導致NAND Flash擴產受限下,具備充裕潔淨室空間的K2廠成為關鍵。鎧俠採穩健策略佈局次世代製程,該廠將是未來市場供給趨緊時,極少數具備實質擴張潛力的戰略籌碼。

重點摘要

  • 地震影響微乎其微:震度未達停機標準,北上廠區設備運作與晶圓產出完全正常,供應鏈未受波及。
  • 策略性穩健擴張:K2廠將採取穩健步調,聚焦於次世代製程技術的研發與演進,為高層數技術預作準備。
  • 資源排擠效應:受AI驅動HBM需求影響,主要競爭對手優先將資源傾斜於DRAM,導致NAND Flash擴產計畫受到明顯壓抑。
  • 獨家空間優勢:相較於同業產能受限,K2廠擁有充裕的潔淨室空間,是市場上少數仍具顯著擴充潛力的亮點。
  • 掌握戰略主導權:在未來NAND Flash供給可能趨緊的結構下,K2廠將助鎧俠掌握調節供給與搶佔市佔的關鍵優勢。

目錄

  1. 日本地震安然無恙,Kioxia K2廠為未來NAND Flash擴產關鍵樞紐
  2. DRAM排劑效應下,K2廠區成未來NAND Flash唯一擴張可能性,但投資心態保守
    • Kioxia’s Plans for Its Fab Sites

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Kioxia’s Plans for Its Fab Sites


報告分類: NAND Flash




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